ASML确认：美日荷已达成协议！

1月29日消息，昨日外媒报道称，美国拜登政府在当地时间本周五于华盛顿结束的谈判中，已经成功与荷兰和日本达成协议，将限制对华出口先进的芯片制造设备，其中就包括ASML Holding NV、Nikon Corp.和Tokyo Electron Ltd.等厂商的产品。

在外媒报道发布之后，当地时间周六，ASML对外回应称，据该公司了解，美日荷政府就半导体制造设备对华出口的新限制达成协议方面取得了进展。

ASML 表示：“据我们了解，政府之间已采取措施达成协议，该协议将专注于先进的芯片制造技术，包括但不限于先进的光刻工具。”

不过，ASML补充说，“在它生效之前，必须详细说明并实施到立法中，这需要时间。”

根据ASML 先前公布的年度财报显示，中国大陆市场占该公司2021 年营收的15% 左右。那么随着荷兰政府跟进美国新规，ASML的业务将受多大影响？

对此，ASML表示，这些措施预计不会对其 2023 年的财务预测产生重大影响。

根据此前的分析，预计荷兰将在限制ASML向中国出口EUV（极紫外光）光刻机的基础上，再度限制部分浸没式光刻机（属于DUV光刻机）的出口，该设备对制造尖端芯片至关重要。

DUV光刻机分为248nm和193nm光刻机两种类型，193nm光刻机又分为干式和浸没式两种类型。此次可能会禁运的是浸没式193nm光刻机，目前全球仅有ASML和尼康两家公司生产。

目前浸没式光刻机可以被用于16nm至7nm先进制程芯片的制造，但是目前也有被业界广泛应用在45nm及以下的成熟制程当中。因此，一旦浸没式光刻机被加入限制，则意味着中国自45nm及以下成熟制程芯片的生产可能也将受到影响。

不过，从美国新规来看，主要限制的是16/14nm及以下先进制程芯片的制造，因此可能会限制主要应用于先进制程的浸没式光刻机的部分型号的对华出口，部分主要应用于成熟制程的浸没式光刻机型号的许可申请可能会开放。

据芯智讯了解，ASML NXT2000及以上型号，尼康的NSR635及以上型号可能都将被列入限制出口范围。

除了荷兰ASML和日本尼康这两大光刻机厂商会受影响之外，日本的尼康、东京电子等众多半导体设备厂商的相关设备的对华出口预计也将受到影响。

值得注意的是，ASML CEO Peter Wennink（彼得·温宁克） 在25日接受采访时表示，美国主导的针对中国的半导体出口管制措施，最终会促使中国在高端芯片制造设备领域成功研发出自己的技术。

温宁克表示，中国的半导体公司“必须参与全球竞争”，所以他们才想购买非中国制造的设备，“如果无法得到这些机器，他们就会自己研发。这需要时间，但最终他们会实现目标”。温宁克表示，“中国的‘物理定律’和这里的一样，你越给他们施加压力，他们越有可能加倍努力”，以制造能够与ASML敌的光刻设备。

在谈到美国出口管制措施的负面影响时，温宁克此前曾表示，美国去年10月宣布的人员限制措施“给个人和公司带来各种各样的问题”，“这绝对不是一件值得高兴的事情”。他表示，总体而言，出口管制将“造成一定程度的混乱”，“这将影响效率和创新，并影响到我们所有人”。温宁克还警告称，过度的管制措施可能导致芯片制造商的成本上升，因为美国要求从日本到荷兰的盟友帮助限制中国获得关键半导体技术的机会。“芯片可用性可能会减少，可能是由于出口管制走得太远，这也意味着我们将拥有效率较低的基础设施，成本很可能会上升。”